低温恒温槽应用范围： 对半导体制造装置发热部的冷却：单晶片洗净转载、印刷机、自动夹座安装装置、喷涂装置、离子镀装置、蚀刻装置、单晶片处理装置、切片机、包装机、显影剂的温度管理、露光装置、生磁部分的加热装置等。对激光装置发热部分的冷却：激光加工、熔接机的发热部分、激光标志装置、发生装置、二氧化碳激光加工机等
智能PID数显温控，精度控制在±0.2℃。  与液体接触部分全部采用不锈钢，具备防腐蚀、防锈、防低温液体污染功能。

特点：采用全封闭压缩机制冷，具有降温速度快、噪音低、性能、质量等特点。

底部带有磁力搅拌，可带动槽内磁力搅拌，使温度充分均匀，

低温恒温槽使用注意事项： 1.使用前低温恒温槽内应加入液体介质，且加入的液体介质页面不能低于工作台板20; 2.当要求低温恒温槽的工作温度低于5摄氏度时，液体介质一般选用酒精；工作温度在5～80摄氏度时，液体介质一般选用纯净水，工作温度在80～90摄氏度时，液体介质一般选用水油混合液，工作温度在90～100摄氏度时，液体介质一般选用油
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