低温恒温槽应用范围： 对半导体制造装置发热部的冷却：单晶片洗净转载、印刷机、自动夹座安装装置、喷涂装置、离子镀装置、蚀刻装置、单晶片处理装置、切片机、包装机、显影剂的温度管理、露光装置、生磁部分的加热装置等。对激光装置发热部分的冷却：激光加工、熔接机的发热部分、激光标志装置、发生装置、二氧化碳激光加工机等
底部设有加热系统，利用加热平衡制冷，避免了压缩机的频繁启动，增加了压缩机的寿命

特点：采用全封闭压缩机制冷，具有降温速度快、噪音低、性能、质量等特点。

低温恒温槽使用注意事项： 1.使用前低温恒温槽内应加入液体介质，且加入的液体介质页面不能低于工作台板20; 2.当要求低温恒温槽的工作温度低于5摄氏度时，液体介质一般选用酒精；工作温度在5～80摄氏度时，液体介质一般选用纯净水，工作温度在80～90摄氏度时，液体介质一般选用水油混合液，工作温度在90～100摄氏度时，液体介质一般选用油

低温恒温反应浴是参照日本东京理化器械株式会社的产品生产的一种新型实验仪器，特别适用于密闭条件下的有机合成及其他化学反应，是现代化学、生物制药及化学制药等实验、大专院校、科研院所必备的设备
郑州杜甫仪器厂本着“以信为本、以诚待人、以稳求实、共同发展”的经营方针，提供优良的产品、良好的服务来赢得市场用户的信赖。
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