郑州低温恒温反应浴 槽特点 性能好

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  • 产品规格:
  • 发货地:河南省郑州巩义市
关键词
郑州低温恒温反应浴,槽特点
详细说明
容积10L 空载调节范围-60-98℃ 恒温精度±0.5℃ 制冷量380-2600 实用开口径Φ200(mm)
低温恒温槽应用范围: 对半导体制造装置发热部的冷却:单晶片洗净转载、印刷机、自动夹座安装装置、喷涂装置、离子镀装置、蚀刻装置、单晶片处理装置、切片机、包装机、显影剂的温度管理、露光装置、生磁部分的加热装置等。对激光装置发热部分的冷却:激光加工、熔接机的发热部分、激光标志装置、发生装置、二氧化碳激光加工机等
特点:采用全封闭压缩机制冷,具有降温速度快、噪音低、性能、质量等特点。
郑州低温恒温反应浴 槽特点
智能PID数显温控,精度控制在±0.2℃。  与液体接触部分全部采用不锈钢,具备防腐蚀、防锈、防低温液体污染功能。
郑州低温恒温反应浴 槽特点
底部带有磁力搅拌,可带动槽内磁力搅拌,使温度充分均匀,
郑州低温恒温反应浴 槽特点
在使用低温恒温槽是,一般情况下不要自行修改各个参数,除测量值修正可以修改; 低温恒温槽使用电源50Hz 220V,电源的功率一定要大于或者等于一起的总功率,电源bi须要有良好的"接地"装置。
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